據(jù)媒體報(bào)導(dǎo)，5月13日韓國產(chǎn)業(yè)通商資源部(The Ministry of Trade, Industry and Energy，MOTIE)對(duì)外宣布，全球光刻機(jī)龍頭大廠阿斯麥(ASML)計(jì)劃赴韓國打造EUV 再制造(remanufacturing)廠及培訓(xùn)中心。
據(jù)介紹，ASML未來4年將在韓國投資2,400億韓元(2.1億美元)，于京畿道華城市打造一座EUV光刻設(shè)備再制造廠以及一家培訓(xùn)中心。所謂再制造，是指通過必要的拆卸、檢修和零部件更換等，將廢舊產(chǎn)品恢復(fù)如新的過程。
想要打造先進(jìn)制程的半導(dǎo)體生產(chǎn)線，一定要設(shè)法取得關(guān)鍵半導(dǎo)體設(shè)備。應(yīng)用材料、ASML、泛林半導(dǎo)體、東京電子是全球前四大半導(dǎo)體設(shè)備廠商，總體的市占率高達(dá)60%左右。問題是，這些半導(dǎo)體設(shè)備廠每年只能生產(chǎn)一定數(shù)量的機(jī)臺(tái)，交貨時(shí)間也比較長(zhǎng)。
特別是對(duì)于7nm以下先進(jìn)制程所必須的EUV光刻機(jī)來說，目前ASML是全球唯一一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商。但是目前ASML的EUV光刻機(jī)產(chǎn)能十分有限，一年只能生產(chǎn)30臺(tái)左右EUV光刻機(jī)。
據(jù)媒體報(bào)道稱，目前臺(tái)積電已取得了50臺(tái)EUV設(shè)備，而三星僅有10臺(tái)。
此次ASML計(jì)劃在韓國新建的EUV再制廠，主要用途就是為韓國當(dāng)?shù)剡\(yùn)行的EUV光刻機(jī)維護(hù)、升級(jí)提供助力。
據(jù)了解，韓國MOTIE及京畿道政府將針對(duì)ASML的授權(quán)、擴(kuò)張當(dāng)?shù)貥I(yè)務(wù)事宜提供協(xié)助。而上述設(shè)施預(yù)計(jì)2025年底前落成，未來將在韓國聘用超過??300名專業(yè)人才。
另外值得一提的是，報(bào)道還指出，目前美國半導(dǎo)體設(shè)備大廠泛林半導(dǎo)體(Lam Research Corp.)將擴(kuò)大對(duì)韓國的投資南。報(bào)道引述業(yè)界消息指出，泛林半導(dǎo)體已將韓國的生產(chǎn)目標(biāo)提高一倍，正在尋找合適的地點(diǎn)建立新廠，以便擴(kuò)充產(chǎn)能。
關(guān)鍵詞： 光刻機(jī)
責(zé)任編輯：Rex_07
